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电子工业超纯水设备
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| 电子工业超纯水设备 |
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| 电子工业超纯水设备 |
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| 电子工业超纯水设备 |
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| 电子工业超纯水设备 |
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| 电子工业超纯水设备 |
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| 电子工业超纯水设备 |
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【产品介绍】
我公司采用国际先进的两级反渗透装置，配套进口混合离子交换设备或EDI设备和紫外线灭菌器、精密过滤器，出水水质符合电子部超纯水水质标准（18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四级），取代蒸馏水，满足大专院校、科研机构和工业企业的实验、科研和生产对高纯度纯水的要求。
该设备广泛应用于电镀工艺去离子水、电池生产工艺用纯水、汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗纯水、镀膜玻璃用纯水、纺织印染工艺所需的除硬除盐水系统。超纯水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术发展。综合膜技术、紫外线、离子交换、超滤等技术，有效满足对总有机碳、硅、电阻率、微粒、细菌、金属离子、溶解氧指标等的特殊要求。
【应用领域】
1:电子材料加工、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路；
2:LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管；
3:超纯材料和超纯化学剂导纤维和光盘；
4：汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品实验室和中试车间；
【水质标准】
根据客户要求可达到以下标准：符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ·cm、15MΩ·cm、2MΩ·cm和0.5MΩ·cm四级）
【工艺流程】
方案一:预处理—反渗透—初混床—精混床—终端后处理；
方案二:预处理—二级反渗透—EDI—终端后处理；
方案三:预处理—二级反渗透—EDI—膜脱气—抛光混床—终端后处理；
【技术参数】
| 型号 |
产水量（m3/h） |
管径（mm） |
工作压力(MPa) |
材质 |
工作方式 |
| TCCCS-0.25 |
0.25 |
DN15 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-0.5 |
0.5 |
DN20 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-1 |
1 |
DN25 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-2 |
2 |
DN25 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-3 |
3 |
DN32 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-5 |
5 |
DN40 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-10 |
10 |
DN50 |
≤1.0 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-20 |
20 |
DN80 |
≤1.6 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-30 |
30 |
DN100 |
≤1.6 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-40 |
40 |
DN125 |
≤1.6 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
| TCCCS-50 |
50 |
DN200 |
≤1.6 |
CPVC/UPVC |
全自动 |
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